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的薄膜材料,ULVAC的半導(dǎo)體用靶材坩堝,鍍鍋,坩堝蓋板

簡要描述:深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司薄膜材料,ULVAC的半導(dǎo)體用靶材坩堝,鍍鍋,坩堝蓋板的薄膜材料,ULVAC的半導(dǎo)體用靶材,以?低particle?均勻的薄膜厚度分布?使用效率高作為品質(zhì)目標(biāo),對(duì)每種材料研討制造方法,進(jìn)而開發(fā)制造的高品質(zhì)濺射靶

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2023-10-15
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詳情介紹

深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司 薄膜材料,ULVAC的半導(dǎo)體用靶材坩堝,鍍鍋,坩堝蓋板

的薄膜材料,ULVAC的半導(dǎo)體用靶材,以

?低particle
?均勻的薄膜厚度分布
?使用效率高
作為品質(zhì)目標(biāo),對(duì)每種材料研討制造方法,進(jìn)而開發(fā)制造的高品質(zhì)濺射靶。
產(chǎn)品特性 / Product characteristics
 ? 采用最合適制造方法的濺射靶

ULVAC為了滿足半導(dǎo)體工藝所需的各種要求,采用最合適的制造方法,進(jìn)行靶材的開發(fā)和制造。
? 抑制particle發(fā)生的濺射靶
濺射中發(fā)生問題,ULVAC開發(fā)了抑制particle發(fā)生的濺射靶。特別是,根據(jù)在Al靶的精煉和鑄造過程中采用的真空溶解法,我們正在努力減少氧氣等氣體成分,因?yàn)檫@是particle產(chǎn)生的原因之一。
? 通過金屬結(jié)構(gòu)調(diào)整實(shí)現(xiàn)高均勻性
ULVAC的高純度鈷靶和鈦靶開始,大多數(shù)半導(dǎo)體靶材采用的制造工藝,注重精細(xì)和均質(zhì)化的冶金結(jié)構(gòu)。比如,在高純度鈷靶中,通過金屬結(jié)構(gòu)的精細(xì)和均勻化,使靶材表面上的漏磁通量偏差最小化。
? *的品質(zhì)管體體制
我們ULVAC考慮對(duì)產(chǎn)品的特性和形狀,貫徹始終地進(jìn)行制造。
? 通過金屬結(jié)構(gòu)調(diào)整實(shí)現(xiàn)高均勻性
產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application
鎢靶的GDMS分析結(jié)果



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